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第277章 EUV光刻機與DUV光刻機（第1頁）

當然，此時的絕大部分記者們并不知道如果想要生産90納米和65納米芯片。

其實不一定需要采用第5代浸沒式光刻機技術，直接研發采用第四代的ArF幹式光刻機技術也行。

因為第四代的ArF幹式光刻機的光源波長是193nm，這193nm光源波長理論上最高是能生産65納米芯片的。

但做事不能考

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